Die Shim‑pack XR‑ODSIII mit erhöhter Drucktoleranz von 100 MPa kann für ein breiteres Anwendungsspektrum eingesetzt werden und behält dabei die Benutzerfreundlichkeit der Shim‑pack XR‑ODSII bei. Durch Kombination von Shim‑pack XR‑ODSII/III mit Prominence UFLC oder Nexera können hochauflösende und hochsensitive Nachweisverfahren für kleinste Komponenten z. B. in der Verunreinigungsanalyse erreicht werden.